HFE 7200 Cas 163702 06 5 voor halfgeleiderreiniging Tel:+086-592-5803997

Als gefluoreerd oplosmiddel van de volgende-generatie zet de HFE 7200 de maatstaf voor precisiereiniging in omgevingen waar absolute betrouwbaarheid niet-onderhandelbaar is. Het is ontworpen met een ultra-hoge zuiverheid, uitzonderlijke materiaalcompatibiliteit en snelle residu-vrije verdamping, en is geschikt voor de meest veeleisende reinigingsuitdagingen bij de productie van halfgeleiders, optica, elektronica en medische instrumenten.

Halfgeleiderreiniging: Van het verwijderen van etsresten op nanoschaal- op wafersubstraten tot het voorzichtig reinigen van gevoelige optische lenzen en medische endoscopen: de HFE 7200 levert consistente, herhaalbare prestaties zonder de integriteit van het substraat in gevaar te brengen. Het niet-ontvlambare karakter en de lage toxiciteit maken het een veilige keuze voor zowel geautomatiseerde dampontvettingssystemen als handmatige reinigingsprocessen, terwijl het milieuprofiel aansluit bij de mondiale duurzaamheidsrichtlijnen.

Waar conventionele oplosmiddelen tekortschieten, blinkt HFE 7200 uit - door ervoor te zorgen dat kritische componenten voldoen aan de hoogste normen op het gebied van reinheid, functionaliteit en levensduur.

Belangrijkste voordelen van HFE 7200 Tel:+086-592-5803997

Belangrijkste toepassingen van HFE 7200 Tel:+086-592-5803997

1. Natte reiniging van halfgeleideretsapparatuur; Reiniging van Liquid Crystal- en harde schijfcomponenten
HFE 7200 wordt veelvuldig gebruikt in geavanceerde natte reinigingsprocessen voor de fabricage van halfgeleiders, met name bij het verwijderen van resten na het etsen van wafers en kamercomponenten. De uitzonderlijke zuiverheid, lage oppervlaktespanning en snelle verdamping zorgen voor een grondige reiniging zonder ionische of deeltjesvormige verontreinigingen achter te laten. In de weergave- en gegevensopslagindustrieën is het even effectief voor het reinigen van delicate LCD-panelen (liquid crystal display) en componenten van harde schijven (HDD), waarbij de optische helderheid en mechanische precisie behouden blijven en oliën, deeltjes en organische resten worden geëlimineerd.

2. Reiniging van laserapparatuur en reiniging van optische lenzen
Vanwege de niet-corrosieve en residuvrije- eigenschappen is HFE 7200 ideaal voor het onderhouden van hoogwaardige- optische systemen. Het verwijdert veilig stof, vingerafdrukken en coatings van laseroptiek, lenzen, spiegels en sensoren zonder de anti-reflecterende of gespecialiseerde coatings te beschadigen. Het snel-drogende karakter voorkomt strepen, waardoor optimale lichttransmissie en systeemnauwkeurigheid worden gegarandeerd bij kritische toepassingen zoals lithografie, lasersnijden, medische beeldvorming en wetenschappelijke instrumenten.

3. Reiniging van elektronische precisiecomponenten
HFE 7200 dient als een zeer betrouwbaar oplosmiddel voor het ontvetten en verwijderen van flux uit gevoelige elektronische assemblages, waaronder printplaten (PCB's), connectoren, relais en micro-elektromechanische systemen (MEMS). De lage toxiciteit en superieure materiaalcompatibiliteit zorgen voor veilig gebruik op kunststoffen, elastomeren en metalen, waardoor zwelling, barsten of elektrische degradatie worden voorkomen en tegelijkertijd een hoge diëlektrische betrouwbaarheid wordt gegarandeerd.

4. Luchtvaart en medische gebieden (medische lensreiniging, speciale gevoelige materialen)
In de luchtvaart wordt HFE 7200 gebruikt voor het reinigen van luchtvaartelektronica, navigatiesystemen en gevoelige composietmaterialen zonder hun structurele of elektrische eigenschappen te beïnvloeden. Bij de productie en het onderhoud van medische apparaten wordt het toegepast voor het reinigen van endoscooplenzen, chirurgisch gereedschap, diagnostische sensoren en andere biocompatibele componenten, waarbij steriliteit, niet--reactiviteit en nulresidu van het grootste belang zijn.

5. Schoonheids- en cosmetische toepassingen (make-up/make-up verwijderaar, gezichtsmaskers)
In cosmetische formuleringen fungeert HFE 7200 als een vluchtige drager of oplosmiddel in producten zoals long-make-up, waterproof make-up verwijderaars en sheetmaskers. De zachte, niet-irriterende eigenschappen en snelle verdamping zorgen ervoor dat de actieve ingrediënten gelijkmatig worden afgegeven zonder een vettig residu achter te laten, waardoor de gebruikerservaring en de productstabiliteit worden verbeterd.

6. Reinigings- en spoelmiddelen voor dampontvetting
HFE 7200 is een voorkeursoplosmiddel in gesloten-dampontvettingssystemen voor het verwijderen van oliën, vetten en was van metalen, keramische en polymeeronderdelen. Het lage kookpunt en de hoge stabiliteit zorgen voor efficiënte condensatie en terugwinning, waardoor het verbruik van oplosmiddelen en de impact op het milieu worden geminimaliseerd en tegelijkertijd industriële- zuiverheid wordt bereikt.

7. Smeermiddeldrager
Als dragervloeistof in speciale smeermiddelen en anti-vastloopmiddelen vergemakkelijkt HFE 7200 de gelijkmatige toepassing van smeerdeeltjes of additieven op complexe mechanische assemblages. Het verdampt snel na het aanbrengen en laat een uniforme, dunne smeerfilm achter zonder stof aan te trekken of toleranties te verstoren.

8. Gespecialiseerd oplosmiddel, dispersiemedium, reactiemedium en extractieoplosmiddel
HFE 7200 wordt gebruikt in R&D en hoogwaardige chemische processen- als een inert medium voor het verspreiden van nanomaterialen, het uitvoeren van gecontroleerde chemische reacties of het extraheren van gevoelige verbindingen. Dankzij de chemische stabiliteit, niet-polariteit en lage reactiviteit is het apparaat geschikt voor het hanteren van geavanceerde materialen, farmaceutische producten en fijne chemicaliën.

9. Vervanging voor CFK's, HCFK's, HFK's en PFK's
Als milieuverantwoord alternatief voor oplosmiddelen die de ozon-aantastend zijn en een hoog-mondiaal-opwarmend-opwarmingsvermogen- bieden, biedt de HFE 7200 vergelijkbare of superieure prestaties zonder aantasting van de ozonlaag (ODP) en een aanzienlijk lager GWP. Het ondersteunt de naleving van internationale milieuregelgeving zoals de Protocollen van Montreal en Kyoto.

10. Warmteoverdrachtsvloeistof
HFE 7200 wordt gebruikt in een-fasige of twee-fasige koelsystemen voor elektronica, lasersystemen en laboratoriumapparatuur. De thermische stabiliteit, on-ontvlambaarheid en diëlektrische eigenschappen maken een efficiënte en veilige warmteafvoer mogelijk bij toepassingen met direct- contact of indirecte koeling, inclusief dompelkoeling voor- krachtige computer- en vermogenselektronica.

hFE 7200 Gegevensblad Tel:+086-592-5803997

Uiterlijk en eigenschappen	Kleurloze transparante vloeistof	Geur	Geurloos
Kookpunt op 1 atm	156-160 graden	Vriespunt	-84,9 graden

dichtheid van vloeistof (25 graden)	1.810 g·ml^-1	Vlampunt	Nee

diëlektrisch verlies (10 MHz)	0.00418	volumeweerstand	Groter dan of gelijk aan 1,579×1011 Ω·mm
brekingsindex	1.308	coëfficiënt van volume-uitbreiding (20-80 graden)	5.420×10^-3

kinematische viscositeit (25 graden)	3,05 mm2·s^-1	Specifieke warmte	1.151 J·g^-1·K^-1

warmtegeleidingscoëfficiënt (25 graden)	0.0656W∙m-1∙K^-1	oppervlakte spanning	17,51 mN·m^-1

diëlektrische sterkte (2,5 mm)	>50,4 kV	diëlektrische constante (1 MHz)	4.75

ODP	0	GWP	180