Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. is een van de toonaangevende fabrikanten en leveranciers van hydrofluorether hfe347 waferreinigingsoplosmiddel in China. Als u op zoek bent naar hydrofluorether hfe347 waferreinigingsoplosmiddel, wees dan vrij om onze kwaliteitsproducten tegen een concurrerende prijs in onze fabriek te kopen. Neem contact met ons op voor een offerte.
Wat is wafelreiniging? Tel:+86-592-5803997
Waferreiniging is een cruciaal halfgeleiderproces dat deeltjes, organische stoffen en metaalverontreinigingen van siliciumwafels verwijdert met behulp van natte chemische baden (zoals RCA Clean,Piranha-etsen met H₂SO₄/H₂O₂), oplosmiddelen (aceton, methanol), fluorwaterstofzuur (HF) en mechanisch schrobben of megasonische methoden, gevolgd door spoelen met ultra-zuiver water en drogen met stikstof om foutvrije- oppervlakken te garanderen voor de fabricage van microchips, waarbij processen evolueren van batchdompelen tot single- waferspuiten voor precisie.
Hydrofluorether HFE347, een combinatie van nul ODP, lage GWP, niet-ontvlambaarheid en nul residu, is snel de nieuwe favoriet van de fabrieksingenieur geworden en wordt nu beschouwd als een krachtige aanvulling op en upgrade van conventionele methoden.
wafelreinigingsproces Tel:+86-592-5803997
| Wafelreinigingsstap | Doel |
|---|---|
| Pre-diffusiereiniging | Creëert een oppervlak dat vrij is van metaal-, deeltjes- en organische verontreinigingen. In sommige gevallen moeten natuurlijke oxiden of chemische oxiden worden verwijderd. |
| Reiniging van metaalionenverwijdering | Elimineer metaalionen, die schadelijke gevolgen kunnen hebben voor de werking van het apparaat. |
| Deeltjesverwijdering Schoon | Verwijder deeltjes van het oppervlak door middel van chemisch of mechanisch schrobben met behulp van Megasonic-reiniging. |
| Na het etsen schoon | Verwijder de fotoresist en polymeren die na het etsproces zijn achtergebleven. Verwijder fotoresist en vaste resten, inclusief "etspolymeer". |
| Film verwijderen Schoon | Siliciumnitride-etsen/strippen, Oxide-etsen/strippen, Siliciumetsen en metaaletsen/strippen |
De grenzen van conventionele reiniging en de strategische rol van HFE Tel:+86-592-5803997
Het klassieke reinigingsproces voor RCA-wafels is gebaseerd op hoge- temperatuur, hoge- zuivere waterige chemische oplossingen (bijv. SC-1, SC-2). Hoewel het proces uitstekend is in het verwijderen van ionen, metaalverontreinigingen en deeltjes, heeft het twee inherente beperkingen:
Beperkte werkzaamheid tegen specifieke organische verontreinigingen zoals fotoresistresten, vacuümpompoliën, siliconenvetten en geavanceerde smeermiddelen van precisiecomponenten.
De uitdaging voor het drogen van 'water': de hoge oppervlaktespanning van water vormt een kritisch risico tijdens de laatste droogfase, wat vaak leidt tot patrooninstorting en watermerkresten, vooral op structuren met een hoge -aspect--verhouding.
HFE 347, een geavanceerd hydrofluorether-oplosmiddel, pakt deze pijnpunten rechtstreeks aan via zijn unieke fysisch-chemische eigenschappen, en positioneert zichzelf als het ideale medium voor "precieze droge-in-natte reiniging."
Basisinformatie over het reinigen van wafers Hydrofluorether HFE347
Tel:+86-592-5803997
HFE (Hydrofluorether) is een klasse organische verbindingen bestaande uit waterstof, fluor, koolstof en zuurstof, die etherbindingen (R-O-R') en fluoralkylstructuren combineren. Het is ontworpen om de uitstekende prestaties van gefluoreerde oplosmiddelen te behouden en tegelijkertijd de gevolgen voor het milieu (zoals de aantasting van de ozonlaag en het broeikaseffect) te verminderen. HFE wordt veel gebruikt als precisiereinigingsmiddel, koelmiddel, oplosmiddeldrager, enz., vooral in de elektronica, halfgeleiders en ruimtevaart.
|
Chemische naam: |
1,1,2,2-tetrafluorethyl-2,2,2-trifluorethylether |
|
CAS: |
406-78-0 |
|
MF: |
C4H3F7O |
|
MW: |
200.05 |
|
EINECS: |
609-858-6 |
|
Chemische eigenschappen |
|
|
Kookpunt |
56,2 graad |
|
dikte |
1.487 |
|
brekingsindex |
1.276 |
|
Soortelijk gewicht |
1.487 |
|
CAS DataBase-referentie |
406-78-0(CAS-databasereferentie) |
|
EPA-stoffenregistratiesysteem |
HFE-347pcf2 (406-78-0) |
|
Proefartikelen |
Specificaties |
|
Verschijning |
Heldere kleurloze vloeistof |
|
Zuiverheid |
Groter dan of gelijk aan 99,5% |
|
Water |
Minder dan of gelijk aan 100 ppm |
halfgeleiderwafelreiniging HFE 347 Fabrieksrondleiding Tel:+86-592-5803997
halfgeleider Reinigingsleverancier - Bedrijfsprofiel Tel:+86-592-5803997
Xiamen Juda Chemical & Equipment Co., Ltd. is een strategische onderneming die is geïnvesteerd door Juhua Group - een leider in de Chinese fluorchemische industrie - om vooruitgang te boeken in de- sector van hoogwaardige elektronische materialen.
Voortbouwend op de volledige sterke punten van de industriële keten van de Groep, variërend van fundamentele fluorgrondstoffen tot geavanceerde fluorpolymeren, en voortbouwend op zijn technologische expertise op de lange termijn, streeft Juda ernaar internationale aanbodbarrières te overwinnen en zelfvoorziening- te bereiken op het gebied van de belangrijkste elektronische materialen. Het bedrijf is gespecialiseerd in het leveren van essentiële, hoogwaardige, op fluor- gebaseerde oplossingen voor de productie van halfgeleiders, geïntegreerde schakelingen en andere geavanceerde elektronische toepassingen.
Populaire tags: hydrofluorether hfe347 waferreinigingsoplosmiddel, leveranciers, fabrikanten, fabriek, offerte, prijs, kopen
